核心提示:一种高可靠SiC肖特基二极管及其制作方法,通过保护SiC肖特基二极管的肖特基接触区,提高肖特基二极管的可靠性,包括以下步骤:在位于N+衬底的N漂移层的表面进行氧化层的淀积;通过光刻刻蚀形成有源区;在有...
一种高可靠SiC肖特基二极管及其制作方法,通过保护SiC肖特基二极管的肖特基接触区,提高肖特基二极管的可靠性,包括以下步骤:在位于N+衬底的N‑漂移层的表面进行氧化层的淀积;通过光刻刻蚀形成有源区;在有源区内进行P型离子注入然后高温退火;在SiC晶圆背面退火完成欧姆接触电极;腐蚀氧化层,对边缘两侧的氧化层进行腐蚀保留,在SiC晶圆正面退火形成肖特基接触电极;在肖特基接触区通过阳极金属蒸发或溅射和钝化层淀积的交替进行,实现对肖特基接触区的保护;并在钝化层中光刻孔洞,形成上下层金属层之间的互联,高可靠SiC肖特基二极管制作完成。